上海交通大学先进电子材料与器件平台(以下简称“AEMD平台”)26日迎来十周年庆，同时平台正式开放二、三期运行。

　　AEMD平台创建于2012年，目标是建立一个服务于全校的微纳加工工艺实验平台，并面向校外科研院所和企业开放共享。一期净化工程于2014年建成并于同年11月正式向校内外用户开放服务，当时建设的工艺线为具有纳米尺寸图形化能力的6英寸无源微纳结构与器件加工的科研实验线，工艺能力涵盖光刻、薄膜、刻蚀、热工艺等全链式微纳加工工艺。十年来平台为上海交通大学多学科发展和交叉融合做出了突出贡献，同时平台面向国家需求，积极对接校外科研院所和科技企业的项目需求，助推科研项目基础与应用研究进程，促进产业关键技术创新与突破。

　　面向国家重大需求，服务学校双一流建设，平台聚焦微纳技术学科前沿，打破学科壁垒，强化交叉融合，突破关键核心技术，培养国家急需人才。继2014年AEMD一期西区实验室正式开放运行后，在学校及电院支持下，追加逾3亿元投入平台二、三期建设，建成1200余平米、洁净度从十级到千级标准的东区超净间。现整体拥有近1800平米东、西区两个净化实验室，6、8英寸先进微纳加工实验线各一条，具备多层级光刻图形化、薄膜生长与沉积、干法刻蚀、湿法清洗与刻蚀、先进封装、表征与测试等完善的微纳加工与测试能力，新增全自动深紫外步进式光刻机、离子注入机、分子束外延、激光诱导玻璃刻蚀、晶圆键合等先进的微纳加工与封装设备，有效增强了平台在有源电/光器件、MEMS、先进三维封装等领域的科研服务支撑能力。

　　中国科学院院士、深圳大学校长、曾任AEMD平台一期、二期项目负责人毛军发特别发来祝贺视频，高度肯定平台建设成果，寄语平台坚持面向国家重大需求，扎实积累，助推关键技术突破。

　　近年来，随着万物互联、人工智能等技术的飞速发展，对微纳技术也提出了更高的要求，AEMD在一期科研条件的支持下，在新型光电器件、MEMS器件等方面提前布局，支撑校内外科研团队在相关领域实现突破，取得了丰硕的成果。在此基础上，面向国家重大需求，服务交大双一流建设目标，AEMD二、三期又针对有源电/光器件、MEMS、异质异构先进封装等方面做前瞻布局，以期将交大微纳科学基础与应用研究能力提升到更高水平。

　　AEMD平台首任主任、长江学者苏翼凯教授表示，十余年前，AEMD平台在交大相关学科发展急需微纳加工实验工艺平台的背景下应运而生，以服务电子、物理、材料、化工等多学科的原创性和高水平科研为目标一路发展至今，在光电通信、MEMS、封装等领域已取得了显著成果。欲有向上破竹之势，需有向下扎根之力，苏翼凯对AEMD平台十年来取得的成果感慨至深，表示当时立项时的目标，现已成功实现，这正是一代代平台人“不忘初心，向下扎根”的精神体现。

　　平台现任主任程秀兰介绍平台现有工艺能力及未来发展方向。据悉，平台新增8英寸级高端微纳加工与测试新设备，将有效增强平台在有源电子/光学材料与器件、三维异质集成封装、MEMS、微纳光学、先进纳米材料与器件等研究领域的支撑服务能力，助推上海交通大学的微纳加工能力从无源器件全面提升到有源器件加工水平。

　　十余年来，AEMD平台不断精进与创新自身的工艺能力，全力支撑用户科研攻关，取得了很大的进步。为了展现微纳加工领域的匠人匠心，AEMD平台于会前特向广大用户征集科研成果，举办学生用户成果展大赛，并特别设置用户成果展区，重点展示十年间由平台支持的代表性用户科研成果，包括新型光电器件、三维集成存储系统、超材料能源器件等尖端领域。活动现场，与会领导及嘉宾向获奖者颁发荣誉证书，并以此鼓励平台用户不断产出高水平科研成果。获奖者表示，平台不仅是为他们提供技术支持的关键力量，更是科研探索中的重要合作伙伴。

　　本次活动汇聚了多家科研院所、知名企业、领域专家及技术人员参与，部分企业向平台捐赠最新科研仪器设备，助力微纳极端加工技术的突破。(许婧)

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